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  • CPC-FCIF等離子清洗機(jī)F系列
    CPC-FCIF等離子清洗機(jī)F系列

    電感耦合等離子清洗機(jī) 7 寸彩色觸摸屏中英文互動(dòng)操作界面,自動(dòng)控制監(jiān)測(cè)工藝參數(shù)狀態(tài),20 個(gè)配方程序,工藝數(shù)據(jù)可存儲(chǔ)追溯,PLC 控制整個(gè)清洗過(guò)程,手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式。

    時(shí)間:2025-11-20型號(hào):CPC-F訪問(wèn)量:7476
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  • SC1CIF勻膠機(jī)
    SC1CIF勻膠機(jī)

    CIF勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速,旋涂均勻,操作簡(jiǎn)單,結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué),硅片、載玻片,晶片,基片,ITO 導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

    時(shí)間:2025-10-30型號(hào):SC1訪問(wèn)量:5509
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  • CIF-TEM透射電鏡樣品桿清洗機(jī)
    CIF-TEM透射電鏡樣品桿清洗機(jī)

    CIF 透射電鏡(TEM)樣品桿清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程離子清洗源 設(shè)計(jì),清洗快速高效, 低轟擊損傷, 同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。透射電鏡樣品桿清洗機(jī)主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。

    時(shí)間:2025-10-30型號(hào):CIF-TEM訪問(wèn)量:5133
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  • UVO9/UVO9P/UVO9TCIF-UV Ozone Cleaner
    UVO9/UVO9P/UVO9TCIF-UV Ozone Cleaner

    CIF紫外臭氧清洗機(jī),UV Ozone Cleaner采用長(zhǎng)壽命UV石英低壓汞蒸汽格柵燈,樣品臺(tái)高度可調(diào)并可選配加熱控溫功能,以達(dá)到清洗效果。

    時(shí)間:2025-11-20型號(hào):UVO9/UVO9P/UVO9T訪問(wèn)量:3900
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  • CPC-ASH低溫等離子灰化儀
    CPC-ASH低溫等離子灰化儀

    等離子灰化儀又稱等離子有機(jī)質(zhì)去除儀用于煤與生物質(zhì)樣品的低溫灰化,SEM&TEM中有機(jī)樣品刻蝕,塑料品的表面處理以及有機(jī)材料的微觀灰化。

    時(shí)間:2025-10-30型號(hào):CPC-ASH訪問(wèn)量:495
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  • CFE16CIF新一代Flash-Evac系列閃蒸成膜儀
    CFE16CIF新一代Flash-Evac系列閃蒸成膜儀

    CIF Flash-Evac系列閃蒸成膜儀基于“快速溶劑揮發(fā)誘導(dǎo)成膜”原理研發(fā)生產(chǎn)的*薄膜制備設(shè)備,通過(guò)真空環(huán)境加速溶劑蒸發(fā),驅(qū)動(dòng)溶質(zhì)(如有機(jī)小分子、聚合物、金屬鹵化物等)快速自組裝形成均勻納米薄膜。設(shè)備具備智能控制、高效成膜與廣泛兼容等優(yōu)勢(shì),廣泛應(yīng)用于鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、OLED、柔性電子與傳感等前沿領(lǐng)域。

    時(shí)間:2025-10-30型號(hào):CFE16訪問(wèn)量:193
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  • IBS150CIF離子濺射儀
    IBS150CIF離子濺射儀

    CIF離子濺射儀是一款專為貴金屬及合金材料鍍膜研制的高精度設(shè)備,集*控制技術(shù)與人性化設(shè)計(jì)于一體,可實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)、高效且穩(wěn)定的濺射鍍膜工藝。廣泛適用于科研實(shí)驗(yàn)與精密制造領(lǐng)域,為用戶提供高質(zhì)量、一致性高的鍍膜效果。

    時(shí)間:2025-10-30型號(hào):IBS150訪問(wèn)量:205
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  • SPB5/plusRIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
    SPB5/plusRIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

    CIF 推出 RIE 反應(yīng)離子刻蝕機(jī),采用 RIE 反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式,實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所,微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價(jià)比高,易維護(hù),處理快速高效。RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進(jìn)行 RIE 反應(yīng)離子刻蝕。

    時(shí)間:2025-10-30型號(hào):SPB5/plus訪問(wèn)量:2444
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